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Polaris是AJA INTERNATIONAL INC.专为研发预算有限用户打造的高性能磁控溅射平台。系统继承Orion系列成熟的架构设计与工艺能力，通过优化工程配置、回归标准化组件，在保证沉积品质的前提下，精准控制预算，显著降低了高端溅射设备的采购门槛。该平台可配置最多3个2英寸共焦磁控溅射靶枪，配合工作距离可调且连续旋转的基片台，在4英寸基片上可实现优于±2.5%的沉积均匀性，适用于半导体器件、光学薄膜、磁性材料、超导薄膜、硬质涂层及MEMS器件等前沿研究领域。
溅射源与腔体设计
Polaris腔室顶部装有CF集群法兰，采用向下溅射构型，最多可配置3个2英寸共焦磁控溅射靶枪。独特的隔离烟囱设计能有效防止靶材间发生交叉污染，并允许对沉积剖面进行精细调节。搭配工作距离可调且连续旋转的基片台，在4英寸基片上（去除边缘5mm），采用RF沉积SiO2或反应沉积TiN，均匀性优于±2.5%。
模块化磁铁阵列技术
AJA的ST-20磁控溅射靶枪采用独特的模块化磁铁阵列设计，用户可根据应用需求，将溅射靶配置为非平衡或磁性材料模式，也可要求厂家配置成平衡模式。磁铁位于冷却水循环之外，确保运行与维护过程洁净、无障碍，且不会因接触冷却水导致磁铁劣化。所有AJA超高真空溅射靶枪均采用稀土磁体，可适应低至10-11 Torr的真空环境。
真空系统
系统标配HiPace 80涡轮分子泵（对N2抽速67 l/s），搭配3cfm旋叶式机械前级泵，极限真空度≤7.5×10-7 Torr。可选的真空升级方案包括将67 l/s升级为260 l/s宽量程涡轮分子泵，或将前级泵升级为8.8cfm空冷多级罗茨泵。
灵活扩展与按需升级
Polaris提供丰富的可选项以满足不同研究需求：电源方面，可增配AJA 750W直流电源、300W射频电源或100W射频电源（偏压功能用）；样品台支持最高850℃加热功能、水冷式反射箱，以及沉积过程中的RF/DC偏压功能；还可选配Load-Lock预真空室系统、循环冷水机、石英晶体沉积监控仪等。系统设计充分考虑了从基础研发到复杂工艺的扩展需求，可按需升级，随研而变。
设施与操作
Polaris集成于带脚轮的移动机架上，采用标准供电配置，便于部署于各类实验室环境。系统内置多重安全联锁保护，保障操作安全。
产品规格
