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AJA 的蒸发镀膜系统有三种不同的型号：ATC-E, ATC ORION-E （比 ATC 和 ATC-Orion 更高的型号）和 PVDX（一种穿墙箱式镀膜装置）。这些设备都能在有限的预算下实现性能和质量的最优化。这些设备沿用了许多 ATC & ATC ORION 溅射设备的设计特点和通用部件，且都适用于HV高真空和UHV超高真空，还能配置单槽或多槽，直线和旋转电子束蒸发源，热蒸发源，离子/等离子体蒸发源，克努森蒸发池（分子束外延系统），有机材料低温蒸发池，Radak 蒸发源，磁控溅射靶等。此外，这些系统还能配置预真空室，QCM石英晶体微天平监控和控制，加热或冷却的样品台，行星齿轮，不同的泵组和自动控制装置等。
标准蒸发速率/均匀性数据
标准电子束蒸发系统配置
ATC-ORION-8E UHV
结构紧凑，经济型超高真空镀膜机，带5槽直线型电子束蒸发源，安装在滑动机制上，便于装载和维修。系统另一个特点是涡轮分子泵预真空室。
ATC-2200-E
直径 22 英寸，高 36 英寸超高真空电子束蒸发器，带 5 槽直线型，超高真空电子束源，2 个Radak热蒸发器和涡轮分子泵预真空室。
ATC-2030-E HV
6 槽旋转电子束蒸发源，带预真空室，水冷样品台和前置辐射基片加热。
ATC-2036-E HV
6 槽旋转电子束蒸发源，带可加热至 1000°C 基片加热器和线性控制可编程的基片挡板，用于楔形膜。
